超纯水(UPW,电阻率≥18.25 MΩ・cm @25℃)主流分为预处理→一级反渗透→EDI / 混床→抛光精处理四大阶段,根据进水水质、用水等级(电子半导体 / 实验室 / 制药)调整配置。
简易实验室路线(水量小):原水→预处理→一级 RO→EDI→抛光混床
精过滤精度: 1微米
样式: 立式
压力: 1.0MPA
材质: 304
流量: 20立方
口径: DN50