超纯水(UPW,电阻率≥18.25 MΩ・cm @25℃)主流分为预处理→一级反渗透→EDI / 混床→抛光精处理四大阶段,根据进水水质、用水等级(电子半导体 / 实验室 / 制药)调整配置。
简易实验室路线(水量小):原水→预处理→一级 RO→EDI→抛光混床
精度: 常规5~20μm,可截留悬浮物、胶体、泥沙杂质
设计压力: 常规0.6MPa、1.0MPa、1.6MPa
壳体材质: 碳钢防腐、不锈钢304/316、玻璃钢、碳钢衬胶
壳体材质: 碳钢防腐、不锈钢304/316、玻璃钢、碳钢衬胶
设计压力: 常规0.6MPa、1.0MPa、1.6MPa
精度: 常规5~20μm,可截留悬浮物、胶体、泥沙杂质


